半導(dǎo)體電子行業(yè)
發(fā)布時(shí)間：2020-12-03
半導(dǎo)體電子
行業(yè)概括
半導(dǎo)體行業(yè)廢氣排放具有排氣量大、排放濃度小的特點(diǎn)。揮發(fā)性有機(jī)廢氣主要來(lái)源于光刻、顯影、刻蝕及擴(kuò)散等工序，在這些工序中要用有機(jī)溶液（如異丙醇對(duì)晶片表面進(jìn)行清洗，其揮發(fā)產(chǎn)生的廢氣是有機(jī)廢氣的來(lái)源之一；同時(shí)，在光刻、刻蝕等過(guò)程中使用的光阻劑（光刻膠）中含有易揮發(fā)的有機(jī)溶劑，如醋酸丁酯等在晶片處理過(guò)程中也要揮發(fā)到大氣中，是有機(jī)廢氣產(chǎn)生的又一來(lái)源。半導(dǎo)體制造工藝中使用的清洗劑、顯影劑、光刻膠、蝕刻液等溶劑中含有大量有機(jī)物成分。在工藝過(guò)程中，這些有機(jī)溶劑大部分通過(guò)揮發(fā)成為廢氣排放。目前，有機(jī)廢氣排放處理措施采用大風(fēng)量低濃度，其處理一般采用吸附濃縮與焚燒相結(jié)合的方法，處理效率在95%以上。半導(dǎo)體行業(yè)廢氣治理解決方案
項(xiàng)目背景： 深圳某公司在南昌投資新建的半導(dǎo)體Fab，在光刻和蝕刻過(guò)程中產(chǎn)生大量揮發(fā)性有機(jī)廢氣，包括PGME、PGMEA等成分，處理風(fēng)量46000m3/hr，排放濃度為350mg/m3。
治理工藝：沸石轉(zhuǎn)輪+RCO
濃縮倍數(shù)：15倍
設(shè)計(jì)方案：該項(xiàng)目采用沸石轉(zhuǎn)輪濃縮+蓄熱式催化氧化（RCO）的治理方案。廢氣經(jīng)主工藝風(fēng)機(jī)輸送至沸石轉(zhuǎn)輪，廢氣中的VOCs被沸石吸附后達(dá)標(biāo)排放至大氣中，由脫附風(fēng)機(jī)輸送的熱氣將VOCs從沸石中脫附出來(lái)，再由RCO風(fēng)機(jī)輸送至RCO反應(yīng)器中，被氧化成CO2和H2O，達(dá)標(biāo)排放至大氣中。
